o-클로로벤질 클로라이드는 고급 전자 화학 물질, 반도체 세정제 및 포토레지스트 첨가제의 중요한 중간체입니다. 이러한 정밀 분야에서 고객은 회로 결함이나 교차 오염을 방지하기 위해 초저 금속 이온 오염과 높은 화학적 안정성을 가진 물질을 요구합니다.
당사의 생산은 완전 밀폐 조건에서 다단계 증류 및 진공 건조 시스템을 사용합니다. 반응은 70~85 °C로 유지되며, 99.9% 순도, ≤ 0.02% 수분, < 1 ppm 총 금속 함량을 달성합니다. 불활성 질소 보호 및 실시간 가스 흐름 제어는 클로로벤젠 및 벤질 클로라이드 이량체와 같은 산화 부산물을 제거합니다.
이 공정은 자동화된 PLC 제어 패널과 통합되어 일관된 염소 투입량과 배치 추적성을 보장합니다. 결과적으로 생성된 제품은 클로로메틸화 및 축합 반응에서 우수한 반응성을 제공하여 고객이 전자 및 도금 응용 분야에서 더 깨끗한 최종 제품을 얻을 수 있도록 합니다.
ISO 9001, REACH 및 RoHS 인증을 받은 o-클로로벤질 클로라이드는 일본, 한국 및 싱가포르의 반도체 및 화학 회사에 공급되며, 전자 등급 합성에 대한 안정성과 높은 재현성으로 인정받고 있습니다.
